VAD工艺生产红外低羟基高纯石英玻璃项目工程方案

[环境影响评价报告 - 资料分享] 发表于:2025-08-21 18:02:59
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前言
本文概述了红外低羟基高纯石英玻璃项目的工程方案、建设内容及项目组成,包括项目由来、工程规模、主要生产设备、产品方案及项目平面布置等。
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1. 项目由来

全球高端石英玻璃市场由海外企业占主导,国内高端合成石英玻璃不足,光刻机中核心部件以及激光发射器所需的高性能合成石英玻璃材料自给率相对较低,严重制约了我国半导体行业以及尖端国防技术的发展。因此实现红外低羟基高纯石英玻璃的大规模量产,不仅具有一般的商品经济价值,更重要的是具有保障芯片安全、光纤安全、光伏安全、高端器件安全的战略意义。

2. 工程规模

本项目不新增用地,总投资7000万元,项目主要对现有车间进行改造,建设1条红外低羟基高纯石英玻璃生产线及配套辅助设施。

3. 主要生产设备

扩建项目主要生产设备包括VAD沉积设备、真空烧结设备、脱烃炉、槽沉炉、供料系统、退火炉、尾气除尘塔、碱洗塔、四氯化硅储罐、纯水循环系统及碱液罐等。

4. 产品方案

项目建成后年产20吨红外低羟基高纯石英玻璃,用于半导体、光学、激光、航空航天以及新型电光源等高科技领域。

5. 项目组成

项目组成包括扩建的生产车间、新增的生产设备、配套的辅助设施以及环保工程等。

6. 表格内容

表1 建设项目组成一览表

序号项目名称产量产品质量标准用途
1红外低羟基高纯石英玻璃20t/a《F-HUV6合成石英玻璃锭》(Q/FLH303-2022)用于半导体、光学、激光、航空航天以及新型电光源等高科技领域

表2 主要生产设备一览表

序号设备名称规格型号数量备注
1VAD沉积设备Φ460*2000mm YVA40203台新增
2真空烧结设备Φ460*2000mm YZK40201台新增
3脱烃炉Φ460*3000mm YVG40201台新增
4槽沉炉-1台新增
5供料系统-1台新增
6退火炉-1台新增
7尾气除尘塔-1台新增
8碱洗塔3m³1台新增
9四氯化硅储罐3m³3个新增
10纯水循环系统160m³/h1台新增
11碱液罐5m³1台新增

表3 全厂储罐设置情况表

分类序号名称消耗量最大暂存量储存周期备注
原料控制指标1四氯化硅溶液113.33t/a7t19d市场外购,罐车运输
2氢气66万Nm³/a--来自安道麦股份有限公司,管道输送,浓度大于99.5%
3氧气34万Nm³/a--来自现有厂区空分站,管道运输,浓度大于99.5%
4氮气16.5万Nm³/a--浓度大于99.999%
5氦气1300Nm³/a--市场外购,50L钢瓶装,浓度大于99.999%
6氩气37000Nm³/a--市场外购,50L钢瓶装,浓度大于99.999%
7氯气3.47t/a100kg9d市场外购,100kg钢瓶装,浓度大于99.9999%
8氢氧化钠345.53t/a4.4t4d市场外购,质量浓度32%
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